什么是真空电镀?
真空电镀(厂)这个词语对于是否熟悉，在工业或是生活中都会用到真空电镀，真空镀膜加工，就简单来说，真空镀膜厂，手机外壳，鼠标等.这样的例子容易见到的.然而真空电镀到底是什么样的一个产品过程.详情看如下介绍.
首先真空电镀主要包括：真空蒸镀、溅射镀和离子镀几种类型。
1)真空电镀(厂)顾名思议都是采用在真空条件下，通过蒸馏或溅射等方式在塑件表面沉积
2)可以进行操作的金属类型较少，明城真空镀膜，一般用来作较高i档产品的功能性镀层.例如作为内部屏蔽层使用。常见的塑胶产品电镀工艺有两种：水电镀和真空离子镀.
3)真空电镀(厂)中各种金属和非金属薄膜，通过这样的方式可以得到非常薄的表面镀层，同时具有速度快附着力好的突出优点.但是价格也较高.
在高真空度的条件下，高纯度的镀层金属(如铝)在高温下蒸发后会自由地飞散开并沉降在工件表面，形成镀层。
真空电镀原理：
一般而言，镀膜在真空镀膜机内以真空度 1~5 x 10 -4 Torr程度进行 (1 Torr = 1 公厘柱高的压力，大气压为760 Torr)。其镀膜膜厚约为 0.1 ~ 0.2 微米。
如果镀膜在特定厚度以下时(即太薄)，面油对底油将会产生侵蚀、引起化学变化(如表面雾化等)。如镀膜过厚时，会产生白化的状态。
溅射镀：磁控溅射镀膜设备是一种多功能、的镀膜设备。可根据用户要求配置旋转磁控靶、中频孪生溅射靶、非平衡磁控溅射靶、直流脉冲叠加式偏压电源等，塑料真空镀膜，组态灵活、用途广泛，主要用于金属或非金属中。
离子镀：利用气体放电使气体或被蒸发物质部分电离，并在气体离子或被蒸发物质离子的轰击下，将蒸发物质或其反应物沉积在基片上的方法。其中包括磁控溅射离子镀、反应离子镀、空心阴极放电离子镀（空心阴极蒸镀法）、多弧离子镀（阴极电弧离子镀）等。
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