铝 晶淼半导体 清洗机 铝刻蚀台

硅片清洗 化学清洗

 　化学清洗是为了除去原子、离子不可见的污染，方法较多，铝刻蚀机，有溶剂萃取、酸洗（硫酸、·王水、各种混合酸等）和等离子体法等。其中体系清洗方法效果好，铝刻蚀台，环境污染小。一般方法是将硅片先用成分比为H2SO4:H2O2=5:1或4:1的酸性液清洗。清洗液的强氧化性，铝，将有机物分解而除去；用超纯水冲洗后，再用成分比为H2O:H2O2:NH4OH=5:2:1或5:1:1或7:2:1的碱性清洗液清洗，由于H2O2的氧化作用和NH4OH的络合作用，许多金属离子形成稳定的可溶性络合物而溶于水；使用成分比为H2O:H2O2:HCL=7:2:1或5:2:1的酸性清洗液，铝腐蚀设备，由于H2O2的氧化作用和盐酸的溶解，以及氯离子的络合性，许多金属生成溶于水的络离子，从而达到清洗的目的。

用刻蚀步骤，对暴露在外的材质进行去除，留下晶圆所需要的材质和附着在其上的光刻胶，再将光刻胶通过刻蚀去除。此后多次重复上述步骤，得到构造复杂的集成电路。刻蚀的材质包括硅及硅化物、氧化硅、氮化硅、金属及合金、光刻胶等。通过有针对性的对特定材质进行刻蚀，才能使得晶圆制造不同的步骤所制造的电路之间相互影响，使芯片产品具有良好的性能。

主要清洗参数为：1、材质：槽体为全不锈钢制作，耐酸耐碱，外形美观大方。2、机型：可根据客户要求加工定制。3、功率、频率：可调，采用超声波发生器，能量转换率高。4、温控：常温0-110℃可调。5、支架可根据要求和实际需要定制。

清洗设备分类

清洗设备是指废旧塑料瓶、塑料薄膜等废旧塑料经过清洗、烘干、加工制作成重新再利用的机械设备。

清洗设备分为:pet瓶片清洗设备、不锈钢成套清洗设备、塑料清洗设备、新型清洗设备、小型清洗设备、中型清洗设备等。

Pet瓶片清洗设备是指全自动聚酯(如矿泉水瓶、苏打水瓶)片料回收清洗、脱水、干燥生产线，pet瓶片清洗设备(饮料瓶片清洗机设备、pet清洗机组)该生产线月产量可达300-1200吨，自动化程度高，从破碎、输送、清洗、漂洗、脱水、干燥一体化。