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半导体是指室温下电导率介于导体和绝缘体之间的材料。在半导体加工过程中，会产生一种氮氧化物的工业废气。今天学习废气处理关于半导体的工业氮氧化物。

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氮氧化物分为一氧化二氮(N2O)、一氧化氮(NO)、二氧化氮(NO2)、三氧化氮(N2O3)、(N2O4)和五氧化二氮(N2O5)等。氮化物在光照、潮湿或受热时会变成二氧化氮和一氧化氮，一氧化氮又会变成二氧化氮。不同价格的氮化物毒性不同。

关于半导体的工业氮氧化物的废气处理问题

常见的半导体原料有硅、锗、等。加工厂的主要污染物有一氧化氮、一氧化二氮、二氧化氮、一氧化二氮、一氧化二氮、一氧化二氮、HF等。

半导体氮氧化物废气采用燃烧控制技术、烟气脱硝技术和炉内吸收剂喷射。Industrial 废气处理NOx一般在工艺后处理，脱除技术可分为两类:干法包括催化还原、催化分解和吸附，干法包括催化还原、催化分解和吸附。

与干法相比，曲江环保厂家承接酸雾处理，湿法具有水处理工艺简单、吸收剂种类多、运行成本低、适应性强等优点。

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催化燃烧废气处理效果好不好

催化燃烧通过在低温(200 ~400℃)下氧化催化剂来处理废气。环保厂家承接酸雾处理工程，该设备具有能耗低、操作简单、净化效果好等优点。广泛应用于废气，尤其是回收价值不大的废气处理方面，如化工、油漆、绝缘材料、漆包线、涂料生产等行业。

催化燃烧设备主要由换热器、催化床、电加热器、燃烧室和再生器等几大部件组成。加热管加热催化燃烧设备，通过风机的作用提供用于活性炭脱附的温度(80~120℃)。解吸后的废气进入催化燃烧设备部，在催化床的作用下，废气在燃烧室中于250~350℃被氧化分解，环保厂家承接酸雾处理工程方案，分解成小分子化合物，如水和二氧化碳。达标后的气体热量被换热器收集利用，达到节能的目的。

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从化学变化方程式来看，氧化反应类似于化学燃烧过程，但由于氧化反应类似于化学燃烧过程，VOC浓度相对较低，在化学反应中不会引起可见火焰。一般来说，氧化法可以保证氧化反应的顺利进行:

a)加热。使含有VOC有机废气达到反应温度；

b)使用催化剂。如果温度相对较低，氧化反应可以在催化剂表面进行。有机废气处理的氧化方法可分为以下两种:

催化氧化法。目前用于催化氧化的催化剂有两种:金属催化剂和非催化剂。主要有铂、钯等。它们以微粒的形式附着在催化剂介质上。催化剂介质通常是金属或陶瓷蜂窝或散装填料；非催化剂主要由过渡元素金属氧化物制成，例如MnO2。它们是用一定比例的粘合剂混合而成的。为了有效防止催化剂后催化活性的丧失，处理前必须去除铅、锌、等物质。如果不能去除有机废气中的催化剂毒物，就不能用催化氧化法处理VOC。

热氧化法.目前热氧化法分为热燃烧、隔墙、蓄热三种。这三种方法的主要区别在于热量回收方法。这三种方法都可以与催化方法相结合，以降低化学变化的反应温度。

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