全自动晶圆研磨抛光后双面预刷洗机用于清洗已划片完成的工件，对切割道进行清洗，以便后续UV解胶工作。晶圆清洗机的主要工艺是水清洗、二流体清洗、甩干，其中不同种类工件使用不同的**、压力等等。本图纸为成熟产品的图纸，已在市面上各大公司使用，大部分为国产元器件，对比国外清洗机不仅具有相当强的优势，且在使用上和工艺上不落下风。
全自动晶圆研磨抛光后双面预刷洗机化学清洗槽（也叫酸槽/化学槽），主要有HF，H2SO4，H2O2，去蜡腐蚀设备，HCL等酸碱液体按一定比例配置，目的是为了去除杂质，去离子，去原子，后还有DI清洗。IPA是，就是工业酒精，是用来clean机台或parts的，是为了减少partical的。
全自动晶圆研磨抛光后双面预刷洗机采用等离子处理的优点：
经等离子处理后可增加材料表面张力、增强粘接强度，从而**产品质量；
可替代热融胶，使用冷粘胶或低牌号普通粘合剂来保证粘结质量。减少胶水使用量，有效降低生产成本；
全自动晶圆研磨抛光后预刷洗机采用等离子工艺，去蜡清洗设备，可使UV上光、PP覆膜等难粘合材料使用水性胶水都粘得很牢。并淘汰机械打磨、打孔等工序，不产生灰尘、废屑，符合药品、食品等包装卫生安全要求，有利于环保； 等离子处理工艺不会在被处理材料表面留下任何痕迹，肉眼分辨不出来有被处理加工；
等离子因为是电离气体，去蜡清洗机，因而，没有废气废水等污染物排放，安全环保。
全自动晶圆研磨抛光后双面预刷洗机特点：
1、摄像头类模组类产品表面粉尘，杂质专用清洗机器；
2、镜面锈钢一体化封闭机身，对工作环境无污染，适合无尘车间使用要求；
3、全自动晶圆研磨抛光后双面预刷洗机可更换清洗盘清洗多种产品，清洗盘按产品定做；
4、PLC自动控制，操作方便快捷；