PI系列高精模具镀膜设备以等离子体过滤技术为核心突破，通过水冷散热系统与高效电磁过滤装置的结合，确保镀膜过程中离子纯度与均匀性。设备采用的弧源设计大幅提升工作稳定性，维护时间缩短至20分钟，降低停机成本。
在工艺性能上，设备制备的类金刚石薄膜（DLC）兼具高硬度（2000-5000HV）与优异结合力（＞5N），可承受600℃高温环境（氮气保护下），适用于高精度模具的长周期服役需求。例如，在光学镜头模具表面镀覆50-150nm的Particle-freeTa-C涂层后，其抗磨损性能提升3倍以上，且不影响模具原有光学精度。
设备兼容磁控溅射源（PIS111-2型号），扩展涂层材料选择范围，满足多元化工艺需求。真空室极限真空度达＜5.0×10³Pa（部分型号），为超洁净镀膜环境提供保障。目前，该系列设备已被多家高校及科研机构用于新材料研发，在精密仪器制造领域实现规模化应用。
注明：以上数据来源于安徽纯源镀膜科技有限公司--材料实验室检测数据