氮氧化合物废气主要治理方法：
按照净化作用原理的不同，甘肃光解废气处理设备，可分为催化还原法、吸收和吸附三类。
1、催化还原法，主要作用原理是在高温、催化剂存在的条件下，将废气中的NOx还原成无污染的N2，由于反应温度较高，同时需要催化剂，光解废气处理设备多少钱，设备投资较大，运行成本较大。
2、吸附法，主要是利用吸收材料、吸附剂吸附废气中的NOx，由于吸附容量小，故该法仅适用于NOx浓度低、气量小的废气处理。
3、吸收法，用水或酸、碱、盐的水溶液来吸收废气中的氮氧化合物，使废气得以净化。该法设备投资省，运行成本较低。
针对目前的有机废气治理，废气除臭处理，安居乐公司从日本引进光触媒先进废气处理技术，与国内多所知名院校积极合作，共同研究开发生产的一种能高效快速去除挥发性有机物（VOC）、无机物、硫化氢、氨气、硫醇、苯等污染物各种臭味的高科技环保设备。安居乐紫外光冷燃烧废气处理设备除臭效率可达99.5%以上，效果大大超过国家颁布的恶臭污染物排放标准（GB14554-93），光解废气处理设备参数，它具有适应性强、运行成本低、无需预处理和设备占地面积小等特点，紫外光冷燃烧废气处理设备可广泛应用于炼油厂、橡胶厂、化工厂、制药厂、污水处理厂、垃圾转运站等各种有污染源恶臭气体的脱臭净化。
半导体废气处理设备
废气介绍：由于半导体工艺对操作室清洁度要求极高，通常使用风机抽取工艺过程中挥发的各类废气，因此半导体行业废气排放具有排气量大、排放浓度小的特点。废气排放也以挥发为主。这些废气主要可以分为四类：酸性废气、碱性废气、有机废气和有毒废气。
废气危害：半导体制造工艺中产生的废气如果没有经过很好的处理进行排放，将造成严重的问题，光解废气处理设备厂家，不仅影响人们的身体健康，恶化大气环境，造成环境污染的公害事件等，也会成为半导体制造中AMC污染的重要来源。
废气处理设备处理方法：依据这些废气的特性，在处理上采用水洗、氧化/燃烧、吸附、解离、冷凝等方法，针对不同污染物，可采取以下综合处理方法：1.一般排气系统2.酸性、碱性废气处理系统 3.有机废气处理系统。
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