PVD镀膜能够镀出的膜层种类，PVD镀膜技术是一种能够真正获得微米级镀层且无污染的环保型表面处理方法，它能够制备各种单一金属膜(如铝、钛、锆、铬等)，氮化物膜(TiN、ZrN、CrN、TiAlN)和碳化物膜(TiC、TiCN)，以及氧化物膜(如TiO等)。PVD镀膜膜层的厚度—PVD镀膜膜层的厚度为微米级，厚度较薄，刀具镀钛技术，一般为0.3μm～5μm，其中装饰镀膜膜层的厚度一般为0.3μm～1μm，因此可以在几乎不影响工件原来尺寸的情况下提高工件表面的各种物理性能和化学性能，镀后不须再加工。
沈阳百乐真空技术有限公司（原沈阳市真空机械三厂），是真空设备行业协会理事单位、中国真空学会理事单位，刀具镀钛设备厂，中国电子元件行业协会电阻电位器分会会员单位，本公司加工设备齐全，检测手段完备，并在2001年通过了ISO9001：2000质量管理体系认证，具有很强的技术能力和加工制造能力。
启动横切架上、下垂直工作电机，横切家自上而下，此时，摆动电机启动，并对坯体进行双向交错拉锯式摆动，从而对批体进行上下垂直切割。在横切架复位后(即切割完毕)，横向切割装置继续前行至暂停位。（待切割好的坯体及侧板经半成品吊具吊至蒸养小车，进行编组入釜蒸养出成品。）横向纵向切割装置行至初始位置。以此类推，周而复始，从而实现对坯体的切割。
真空溅镀：主要主要利用辉光放电(glowdischarge)将氩气(Ar)离子撞击靶材(target)表面，靶材的原子被弹出而堆积在基板表面形成薄膜。溅镀薄膜的性质、均匀度都比蒸镀薄膜来的好，但是镀膜速度却比蒸镀慢很多。新型的溅镀设备几乎都使用强力磁铁将电子成螺旋状运动以加速靶材周围的氩气离子化，造成靶与氩气离子间的撞击机率增加， 提高溅镀速率。
一般金属镀膜大都采用直流溅镀，而不导电的陶磁材料则使用RF交流溅镀，刀具镀钛，基本的原理是在真空中利用辉光放电(glowdischarge)将氩气(Ar)离子撞击靶材(target)表面，电浆中的阳离子会加速冲向作为被溅镀材的负电极表面，这个冲击将使靶材的物质飞出而沉积在基板上形成薄膜。
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